控制气体流量到一个固定值

节省成本的方案

气体流量控制是气体动力学中发展迅速的一个领域。看似微小的结构改变却能产生极大的工程效益。这个改变可由静态或动态装置来完成。静态装置如管孔或粗糙零件不需要外加动力，在定义上是属于静态。动态装置则需要驱动器也就是需要动力(例如电磁阀及驱动器)。驱动方式可能是提前预设的(开路式控制)或是依据传感器监测流量的状况(闭路式控制)而定。

在设计阶段，当需要某特定气体流量误差在1%以内时，许多工程师都会想到 MFC(质量流量控制器)。当整体系统进行测试/调整时，MFC大都设为一个固定值，使气体供应的特性(介质、入口压力、温度及其他)保持稳定一致。

MFC虽然可用，但若和SFC(静态流量控制器)相比，SFC的价格便宜的多，并且MFC每年还需要校准。依据不同应用，您的成本与标准工业级流量控制器相比将可能节省达70%。

用于SFC也可产生平层流。

The technique used in a SFC also creates a laminar flow.

什么是SFC？

静态流量控制器(SFC)是用于精准控制气体流量高达40 slpm的装置。静态流量控制器在设计及校准后可将特定气体控制在特定的流量。SFC可设定在某个特定静态条件下运作，包括真空条件或是流量精准度控制在+/- 1%。该可靠的机械式装置可控制流量于固定值且变动量约为+/- 0.1%。SFC可规划配置想要的接头例如1/4“端面密封或1.125” IGS C型密封接头。SFC均为校准后100%测试通过，且每个零件均通过质量认证，其流速数据符合NIST主要标准(近似MFC！)，通过氦泄漏测试且不需重新校准。

为高科技应用而设计

机械式的设计：简单且不易损坏。所有静态流量控制器具有一个入口、一个出口以及内有一个多孔金属零件。SFC的设计精巧，在关键设计方面节省了空间。它是针对UHP应用，316L不锈钢制成，表面处理为10 Ra且是在ISO等级5的无尘室中制造的，因此非常适合半导体制程。在半导体制程中需要稳定的平层流，例如蚀刻制程、化学气相沉积、磊晶沉积、离子植入、原子层沉积、反应槽清洗、晶圆输送模块、加载锁及镜头冷却等等。此外在其他OEM或研究应用中，还可发现许多要求气体流量为固定值的场合。

要选择正确的静态流量控制器，您必须收集下列信息：

所需的流速 (单位为sccm或slpm)
使用的气体(如氮气)
上游压力 (单位为psi或bar)
下游压力 (单位为psi或bar)
连接形式 (客户选项)
工作气体温度 (°C 或 °F)

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